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WD 4151水性分散剂-制备Al₂O₃等磨料分散体的小助手
来源:美扬时代 时间:2022年03月24日

        许多高质量超光滑基材表面都需要抛光。抛光时经常要用到抛光液。抛光液主要用于集成电路元器件等半导体材料的制造过程。研磨料以SiO,CeO,AlO,ZrO等为主。拿AlO抛光液来说,由于α-AlO的硬度高,稳定性好,因此它在处理蓝宝石或半导体材料时,与SiO等软质磨料相比,在去除速率上有着明显的优势。因此近年来以AlO为主要磨料的抛光液越来越受到市场的欢迎,然而,制备一个稳定的AlO分散体存在一定难度,主要难点为:分散体的分层沉淀问题。一个好的磨料分散体需达到如下标准:

        1、储存后无分层、无沉淀、呈均匀稳定的悬浮液状态。

        2、分散体要求无触变。

        3、透明度:要求透明或半透明。除此之外,还有分散体不能稳泡、可能要调入到酸性环境中使用等其它要求。 基于这些要求,我们的思路主要从筛选分散剂着手。 我们测试了不同化学结构的分散剂,其中,大部分分散剂制备的抛光液在1个小时就开始分层,隔夜几乎就完全沉淀。如图1

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        我司经过大量的实验,最终开发出了一款适用于分散SiO,CeO,AlO,ZrO的产品—— WD 4151。它对AlO,SiO,CeO,ZrO等磨料具有优异的分散和稳定性能,其中对AIO分散性能如下:

        1、测试配方

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        2、按照配方制备的AlO水性分散液的储存稳定性: 

             储存稳定性:下图为室温储存4月后的状态:

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        从上图可以看出,使用WD 4151制备的分散液在储存后,无分水、分层和沉淀,状态良好,说明分散液的稳定性优异。

       3、验证此分散体是否适合酸性条件使用   由于有的AlO抛光液需要在PH=3(用硝酸调节)的情况下使用,因此我们将此分散体的PH用硝酸调制PH值为3,测试分散体是否有变化。结果表明用WD 4151制备的分散体依旧稳定,无任何变化。 

WD 4151简介     

WD4151为复合的非离子化合物,主要组分来自于天然植物,生物降解性非常好,不含壬基酚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚、辛基酚聚氧乙烯醚,是一只绿色环保的分散剂产品,并且具有低泡,特别适合于分散金属氧化物。


 1、主要指标

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(1)pH 方法:1%的水溶液 。  

(2)浊点:1%的活性物质在 10%NaCl 溶液中 。

由此可见,WD 4151可广泛用于各种磨料的分散,尤其是AIO,是制备无分层、无沉淀的稳定分散体的极佳选择!

 We are your little helper!





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