许多高质量超光滑基材表面都需要抛光。抛光时经常要用到抛光液。抛光液主要用于集成电路元器件等半导体材料的制造过程。研磨料以SiO_₂，CeO_₂，Al_₂O_₃，ZrO_₂等为主。拿Al_₂O_₃抛光液来说，由于α-Al_₂O_₃的硬度高，稳定性好，因此它在处理蓝宝石或半导体材料时，与SiO_₂等软质磨料相比，在去除速率上有着明显的优势。因此近年来以Al_₂O_₃为主要磨料的抛光液越来越受到市场的欢迎，然而，制备一个稳定的Al_₂O_₃ 分散体存在一定难度，主要难点为：分散体的分层沉淀问题。一个好的磨料分散体需达到如下标准：

        1、储存后无分层、无沉淀、呈均匀稳定的悬浮液状态。

        2、分散体要求无触变。

        3、透明度：要求透明或半透明。除此之外，还有分散体不能稳泡、可能要调入到酸性环境中使用等其它要求。

     基于这些要求，我们的思路主要从筛选分散剂着手。 我们测试了不同化学结构的分散剂，其中，大部分分散剂制备的抛光液在1个小时就开始分层，隔夜几乎就完全沉淀。如图1

        我司经过大量的实验，最终开发出了一款适用于分散SiO_₂，CeO_₂，Al_₂O_₃，ZrO_₂的产品—— WD 4151。它对Al_₂O_₃，SiO_₂，CeO_₂，ZrO_₂等磨料具有优异的分散和稳定性能，其中对AI_₂O_₃分散性能如下：

        1、测试配方

        2、按照配方制备的Al_₂O_₃水性分散液的储存稳定性： 

             储存稳定性：下图为室温储存4月后的状态：

        从上图可以看出，使用WD 4151制备的分散液在储存后，无分水、分层和沉淀，状态良好，说明分散液的稳定性优异。

       3、验证此分散体是否适合酸性条件使用   由于有的Al_₂O_₃抛光液需要在PH=3（用硝酸调节）的情况下使用，因此我们将此分散体的PH用硝酸调制PH值为3，测试分散体是否有变化。结果表明用WD 4151制备的分散体依旧稳定，无任何变化。 

WD 4151简介     

WD4151为复合的非离子化合物，主要组分来自于天然植物，生物降解性非常好，不含壬基酚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚、辛基酚聚氧乙烯醚，是一只绿色环保的分散剂产品，并且具有低泡，特别适合于分散金属氧化物。

 1、主要指标

（1）pH 方法：1%的水溶液 。  

（2）浊点：1%的活性物质在 10%NaCl 溶液中 。

  由此可见，WD 4151可广泛用于各种磨料的分散，尤其是AI_₂O_₃，是制备无分层、无沉淀的稳定分散体的很好的选择！

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